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活动 | Ansys Zemax OpticStudio 2025 R1新功能更新

发布日期:
2025-04-02

浏览次数:

活动 | Ansys Zemax OpticStudio 2025 R1新功能更新



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内容简介


Zemax OpticStudio 2025 R1版本新增了应力双折射分析功能(企业版),能够仿真应力对光学性能的影响,优化复杂光学系统设计;序列模式的复合表面可以转到非序列模式中,且可以统一转成Grid Sag;同时新增机械旋转轴点功能,简化元件位置公差定义,并支持一键生成蒙特卡洛文件,提升公差分析效率。此外,新增深色主题,适应弱光环境,降低眼睛疲劳,延长设备电池寿命,使用体验更加友好。光纤耦合功能也得到增强,FICL作数支持用户界面所有设置,提升分析的灵活性和准确性。还新增了CAD文件导出功能,支持将光线导出到CAD文件,便于机械设计人员对齐机械部件,提升设计协同效率。性能方面,优化了FFT MTF分析功能的分析速度,速度40%-80% 提升。材料目录也进行了更新,新增多家供应商的最新材料数据,扩展了镜头和涂层目录,为设计提供更多选择。同时,官方新增了中文帮助手册。



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嘉宾介绍


活动 | Ansys Zemax OpticStudio 2025 R1新功能更新


谷晨风
高级应用工程师


于2020年年初加入Zemax,主要负责协助用户评估相关技术问题对应的Zemax解决方案可行性并提供对应的最优解决方案建议。毕业于南京理工大学,获光学硕士。

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活动时间


2025年4月8日 16:00 - 17:00


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活动费用

免费

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参与方式

扫描二维码即可进入报名界面进行报名

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活动咨询

李小姐

电话:18998584819 (微信同号)



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