新闻动态

News Center

OpticStudio中的序列模式探索

发布日期:
2025-09-25

浏览次数:

光学设计领域,Zemax OpticStudio 的序列模式(Sequential Mode)凭借对光线传播路径的精准把控,成为相机镜头、望远镜、显微镜等传统光学系统设计的核心工具。不同于非序列模式对复杂光散射的模拟,序列模式以“光线按预设表面顺序传播”为核心逻辑,能高效完成从简单单透镜到多组元变焦系统的设计。下面将从原理、功能、实操到高阶技巧,系统拆解序列模式的应用方法,为光学工程师提供实用指南。

OpticStudio

一、序列模式核心原理:有序化的光线控制逻辑

序列模式的本质是通过表面列表(Surface List)定义光学系统结构,强制光线按表面先后顺序传播,每经过一个表面仅发生一次折射、反射或衍射,以此精准计算光线路径与成像性能,其核心特征体现在两方面:

(一)“表面优先”的结构定义

所有光学元件(透镜、棱镜等)均被拆解为“表面+材料”组合,按光线传播方向排序(如物面→透镜前表面→透镜后表面→像面)。每个表面需定义三类关键参数:

几何参数:含表面类型(球面、非球面等)、曲率半径、半口径、厚度(当前表面到下一个表面的距离),决定表面形态与空间位置;

材料参数:明确表面间填充材料(空气、玻璃等),需指定折射率(支持多波长适配)与色散特性,确保光线传播计算准确;

物理属性:包括表面镀膜(增透膜、反射膜)、衍射光栅、光阑(控制通光或视场),细化光线传播规则。

(二)“确定性”的光线追迹

采用几何光线追迹算法,依据斯涅尔定律(折射)、反射定律或光栅方程,计算光线在每个表面的传播方向变化,最终追踪至像面。这种方式有两大优势:

计算效率高:无需处理随机散射,单条光线追迹速度比非序列模式快1-2个数量级,支持多视场、多波长批量分析;

精度可控:可设置“中止条件”(如光线能量衰减至阈值停止)与“计算精度”(如折射率小数位数),平衡设计效率与结果准确性。

二、序列模式核心功能:覆盖光学设计全流程

序列模式围绕“系统建模-光线追迹-性能分析-优化迭代”构建功能体系,满足不同设计阶段需求:

(一)系统建模:灵活适配各类光学结构

1. 丰富的表面类型库

内置100 +种表面类型,覆盖不同精度需求:

基础表面:球面、平面、抛物面,适用于传统相机镜头、望远镜,参数少且加工成熟;

非球面:二次曲面、高次非球面等,通过额外系数校正球差、彗差,如手机主摄用非球面透镜减少镜片数量;

特殊表面:自由曲面、柱面、衍射光栅,适配AR眼镜自由曲面棱镜、光谱仪光栅等异形系统。

2. 完善的材料管理

内置材料库:整合Schott、Hoya等厂商玻璃库(如BK7、K9),自动加载不同波长下的折射率与阿贝数,一键选型;

自定义材料:支持手动输入特殊材料(如红外锗晶体、光学塑料)的折射率数据(表格导入或公式定义),满足红外、消费电子等场景。

3. 直观的光阑与视场设置

光阑类型:可定义孔径光阑(控制通光,如相机光圈)、视场光阑(限制成像范围,如传感器尺寸),任意表面均可设为光阑;

视场定义:支持角度视场(如望远镜1°视场角)、物高视场(如显微镜0.1mm物高)、像高视场(如手机传感器1/2.3英寸像高),适配不同设计习惯。

(二)光线追迹:全维度分析光线路径

1. 基础追迹:像点与光程差

像点计算:输出指定视场、波长光线的像点坐标,自动计算RMS点列半径(评估成像弥散)与几何像差(球差、彗差等);

光程差(OPD):计算实际光程与理想光程的差值,反映波前畸变,如高精度望远镜OPD需控制在λ/4以内(λ为工作波长)。

2. 进阶追迹:光线属性可视化

光线路径图:2D/3D视图实时显示轨迹,支持按视场、波长高亮光线,快速定位“光线拦截”(如透镜口径不足导致渐晕);

数据报表:导出光线入射角度、能量衰减等参数(Excel格式),便于分析镀膜对能量的影响。

(三)性能分析:量化评估成像质量

1. 几何像差分析

球差曲线:展示不同孔径光线的轴向偏差,曲线越平坦,球差校正越好;

彗差图:显示视场、孔径对光线横向偏差的影响,指导广角镜头彗差校正;

像散图:输出子午面与弧矢面焦点偏差,辅助柱面透镜校正像散。

2. 衍射成像分析

针对光刻镜头、天文望远镜等高精度系统:

调制传递函数(MTF):量化不同空间频率(如50lp/mm)的对比度传递能力,手机主摄需MTF@50lp/mm≥0.3;

点扩散函数(PSF):模拟衍射弥散斑,天文望远镜PSF需接近高斯分布;

光学传递函数(OTF):含MTF(幅值)与PTF(相位),全面反映衍射影响。

3. 基础杂散光分析

鬼像分析:计算表面反射形成的鬼像位置与能量,指导镀膜方案优化;

杂散光比例:评估杂散光占比,高灵敏度系统(如红外探测器)需低于1%。

(四)优化迭代:自动提升系统性能

1. 优化变量设置

将表面曲率、厚度、非球面系数等设为变量,限制调整范围(如曲率±10mm),关键参数(光阑位置、像面尺寸)设为“固定”,避免意外修改。

2. 目标函数定义

内置评价函数:一键加载“RMS点列半径最小化”“MTF大化”等预设目标;

自定义评价函数:通过ZPL脚本编写复杂目标,如“800-1000nm波段内,所有视场MTF@30lp/mm≥0.25”。

3. 优化算法选择

阻尼小二乘法(DLS):适用于初始设计较好的系统,收敛快,适合后期微调;

全局优化:适用于多组元、自由曲面系统,通过随机搜索寻找全局优解,避免局部极值。

三、序列模式实操流程:以50mm单透镜设计为例

以“焦距f\\\\’=50mm、孔径D=10mm单透镜”为例,展示完整设计流程:

(一)步骤1:新建项目与基础设置

打开OpticStudio,选择“File→New→Sequential Mode”;

在“System Explorer”设置:波长“Visible”(587.6nm)、视场“Angle”(0.5°)、孔径“Entrance Pupil Diameter”(10mm)。

(二)步骤2:搭建系统结构

按光线传播顺序定义表面:

物面(Surface 1):类型“Object”,厚度“Inf”(无穷远物);

透镜前表面(Surface 2):球面,曲率25mm,半口径5mm,厚度5mm;

透镜后表面(Surface 3):球面,曲率-50mm,半口径5mm,厚度45mm(到像面距离);

像面(Surface 4):默认“Image”类型;

材料赋值:Surface2-3间选择“BK7”玻璃。

(三)步骤3:性能分析与问题定位

生成点列图,初始RMS点列半径约0.1mm(球差较大);

查看球差曲线,轴向偏差约0.5mm,需优化校正。

(四)步骤4:优化迭代

变量设置:将Surface 2-3的曲率设为变量(±10mm);

目标函数:加载“RMS Spot Radius 最小化”;

启动优化:选择DLS算法,目标函数从0.1mm降至0.01mm;

验证:优化后RMS点列半径0.01mm,球差曲线平坦。

(五)步骤5:结果导出

保存点列图、MTF曲线等图片;

生成设计报告(PDF),含系统参数、表面列表、性能指标。

四、序列模式与非序列模式的场景适配

序列模式与非序列模式为互补工具,需按设计目标选择:

核心逻辑:序列模式“确定性追迹”,非序列模式“自由传播+散射模拟”;

适用系统:序列模式适配成像系统(相机、望远镜),非序列模式适配照明系统(LED车灯)、杂散光系统(红外探测器);

效率与复杂度:序列模式计算快、操作简,非序列模式耗时久、需定义散射模型;

组合应用:可先用序列模式完成成像设计,再用非序列模式分析杂散光。

五、序列模式高阶技巧

(一)参数化建模与批量计算

通过“Parameters”定义全局变量(焦距、孔径),修改后自动更新系统;结合ZPL脚本批量分析多方案(如10种焦距透镜),生成对比报告。

(二)公差分析集成

预测量产误差(曲率偏差、材料波动)对性能的影响,识别高敏感公差(优先控制)与低敏感公差(放宽降本),确保设计可量产。

(三)自由曲面设计

导入CAD自由曲面模型(STEP格式),用“Freeform Optimization”优化面型系数,校正离轴像差(如AR棱镜减少畸变),并支持自由曲面公差分析。

OpticStudio序列模式以“精准、高效”支撑从消费电子到航天的光学设计需求。掌握其核心逻辑,通过“建模-分析-优化”闭环,可将理论设计转化为可量产的优质产品。未来,结合自由曲面、多物理场仿真等技术,序列模式将进一步推动光学创新,助力更多高精度、小型化光学系统落地。

相关推荐

HFSS如何进行RFID标签仿真分析?
无线通信与物联网领域,RFID 技术凭借非接触式识别的优势广泛应用于物流...
OpticStudio中的序列模式探索
光学设计领域,Zemax OpticStudio 的序列模式(Seque...
ANSYSSPEOS光学仿真指南
现代工业设计中,光学性能的优劣直接影响产品的用户体验、安全性与市场竞争力...
Zemax OpticStudio中复合表面的工作原理解析
在光学设计软件 Zemax OpticStudio 的 22.3 版本(...